उत्पाद
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आयनिक तरल डिसल्फराइज़र
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दबाव स्विंग सोखना द्वारा CO को हटाना
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अपशिष्ट एसिड पुनर्जनन
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प्राकृतिक गैस का द्रवीकरण
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एथिलीन टेल गैस रिकवरी
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रेडॉक्स वेट विधि का उपयोग करके डीसल्फराइजेशन तकनीक
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दबाव स्विंग सोखना द्वारा ऑक्सीजन का उत्पादन
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वाल्व
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ग्रिप गैस CO2 पुनर्प्राप्ति प्रौद्योगिकी
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भाप के साथ हल्के हाइड्रोकार्बन के रूपांतरण द्वारा हाइड्रोजन का उत्पादन
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एनएचडी विधि का उपयोग करके डीसल्फराइजेशन और सीओ2 हटाने की तकनीक
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इकाई अलवणीकरण और विखनिजीकरण उपकरण और विशेष राल
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मीथेन निष्कर्षण प्रौद्योगिकी - कोलबेड मीथेन
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मेथनॉल को विभाजित करके हाइड्रोजन का उत्पादन
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कोक ओवन गैसों से हाइड्रोजन का उत्पादन
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वीओसी टेल गैस निपटान
अमोनिया का उपयोग करके ग्रिप गैस डीसल्फराइजेशन तकनीक
अमोनिया विधि का उपयोग करके डीसल्फराइजेशन का एक उप-उत्पाद अमोनियम सल्फेट उर्वरक है; 1 टन अमोनिया से आप 4 टन उप-उत्पाद अमोनियम सल्फेट प्राप्त कर सकते हैं, और इसकी लाभप्रदता अमोनियम सल्फेट और अमोनिया की कीमतों पर निर्भर करती है।
विवरण
मार्कर
उपयोग करें:
अमोनिया का उपयोग करके ग्रिप गैस डीसल्फराइजेशन तकनीक
प्रौद्योगिकी का विवरण
अमोनिया विधि का उपयोग करके डीसल्फराइजेशन का एक उप-उत्पाद अमोनियम सल्फेट उर्वरक है; 1 टन अमोनिया से आप 4 टन उप-उत्पाद अमोनियम सल्फेट प्राप्त कर सकते हैं, और इसकी लाभप्रदता अमोनियम सल्फेट और अमोनिया की कीमतों पर निर्भर करती है।
विशेष विवरण
1、परिपक्व और विश्वसनीय तकनीक
यह तकनीक अधिक अनुकूली है, 98% से अधिक उत्पादन भार के 30% से 110% तक डिसल्फराइजेशन दक्षता का समर्थन कर सकती है, और स्थिर संचालन प्राप्त करने के लिए ग्रिप गैस में राख के आकार की परवाह किए बिना परिपक्व और विश्वसनीय है।
2、आर्थिक और सामाजिक लाभ स्पष्ट हैं
एक टन अमोनिया 2 टन सल्फर डाइऑक्साइड छोड़ सकता है और 4 टन अमोनियम सल्फेट का उत्पादन कर सकता है, जो कुछ मामलों में एक छोटे से अधिशेष के साथ डिसल्फ्यूरेंट की लागत की भरपाई करता है। यदि बिजली की कीमतों पर सब्सिडी दी जाए, तो मुनाफा कमाया जा सकता है; यदि अपशिष्ट अमोनिया उपलब्ध है, तो इसे पुनर्चक्रित किया जा सकता है और महत्वपूर्ण आर्थिक लाभ प्राप्त किया जा सकता है।
3、इस तकनीक में अपशिष्ट जल से अपशिष्ट का निर्वहन शामिल नहीं है और इसके लिए जल उपचार या ठोस अपशिष्ट निपटान संयंत्र की आवश्यकता नहीं है।
अनुप्रयोग
इस तकनीक का उपयोग सभी प्रकार की ग्रिप गैसों के लिए किया जा सकता है, जैसे: अलौह धातु विज्ञान की ग्रिप गैसें (रिंग सांद्रता की ग्रिप गैसें, सल्फ्यूरिक एसिड की निकास गैसें); बॉयलर का धुआं; क्लाउस उत्सर्जन; उत्प्रेरक ग्रिप गैस पुनर्जनन।
तकनीकी प्रक्रिया
तकनीकी समाधान I: कॉलम में ग्रिप गैसों की अवशिष्ट गर्मी के वाष्पीकरण द्वारा क्रिस्टलीकरण का प्रस्ताव (कम राख सामग्री पर)
तकनीकी समाधान II: स्तंभ के बाहर वाष्पीकरण द्वारा क्रिस्टलीकरण (फ्लू गैस में उच्च राख सामग्री के साथ)
विशिष्ट परिणाम
| निर्माता | स्केल | टिप्पणियाँ |
| गुआंग्शी उर्वरक संयंत्र | 160,000 एनएम3/घंटा | सल्फ्यूरिक टेल गैस |
| शेडोंग थर्मल पावर प्लांट | बॉयलर 240वाँ3 | बॉयलर का धुआं |
| शानक्सी में रासायनिक संयंत्र | बॉयलर 220वां3 | बॉयलर का धुआं |
| सिचुआन संयंत्र | बॉयलर 130 tx2 | बॉयलर का धुआं |
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आयनिक तरल डिसल्फराइजेशन तकनीक
आयनिक लिक्विड हाउस गैस डिसल्फराइजेशन तकनीक मुख्य रूप से ग्रिप गैस और अन्य औद्योगिक अपशिष्ट गैसों में सल्फर डाइऑक्साइड के उपचार और उपयोग के लिए डिज़ाइन की गई है। प्रौद्योगिकी की सबसे महत्वपूर्ण विशेषता यह है कि, ग्रिप गैस से सल्फर डाइऑक्साइड को हटाने के साथ-साथ, उच्च शुद्धता वाले सल्फर डाइऑक्साइड (>99.5%) का उप-उत्पाद उत्पन्न होता है और सल्फर प्रदूषकों का पुनर्चक्रण किया जाता है। उच्च शुद्धता वाला सल्फर डाइऑक्साइड तरल सल्फर डाइऑक्साइड, सल्फ्यूरिक एसिड, सल्फर और अन्य रासायनिक उत्पादों के उत्पादन के लिए एक उत्कृष्ट कच्चे माल के रूप में काम कर सकता है।
मेथनॉल को विभाजित करके हाइड्रोजन का उत्पादन
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ग्रिप गैस डिनाइट्रीकरण एससीआर, एसएनसी
प्रौद्योगिकी विवरण प्रौद्योगिकी विवरण दो मुख्य विकृतीकरण विधियाँ हैं (1) चयनात्मक उत्प्रेरक न्यूनीकरण (एससीआर) प्रौद्योगिकी और (2) चयनात्मक गैर-पूंजी न्यूनीकरण (एसएनसीआर) प्रौद्योगिकी।
आयनिक तरल डिसल्फराइज़र
आयनिक तरल पदार्थ आयनों और धनायनों से युक्त पदार्थ होते हैं जो कमरे के तापमान पर या उसके निकट तरल अवस्था में मौजूद होते हैं। विशिष्ट कार्बनिक सॉल्वैंट्स के विपरीत, आयनिक तरल पदार्थों में विद्युत रूप से तटस्थ अणु नहीं होते हैं; वे सभी ऋणायनों और धनायनों से बने हैं।
शोषक
अधिशोषक एक ठोस पदार्थ है जो गैसों या तरल पदार्थों से कुछ घटकों को प्रभावी ढंग से अधिशोषित कर सकता है। अधिशोषक में आमतौर पर निम्नलिखित विशेषताएं होती हैं: बड़ा विशिष्ट सतह क्षेत्र, उपयुक्त छिद्र संरचना और सतह संरचना